光刻 - 维基百科，自由的百科全书
光刻工艺（英語： photolithography 或 optical lithography ，台湾称为微影製程）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。
光刻技术 - 百度百科
光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（又名光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。
什么是光刻技术，为什么对芯片制造至关重要？ - 知乎
光刻是将掩模版上的图形转移到涂有光致抗蚀剂（或称光刻胶）的硅片上，通过一系列生产步骤将硅片表面薄膜的特定部分除去的一种图形转移技术。光刻技术是借用照相技术、平板印刷技术的基础上发展起来的半导体关键工艺技术。
光刻工艺 - 百度百科
光刻（英语：photolithography）工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。
光刻 - 维基百科，自由的百科全书
在硅晶片上涂光阻剂的甩胶机. 下面以衬底上金属连接的刻蚀为例讲解光刻过程。 首先，通过金属化过程，在硅衬底上布置一层仅数纳米厚的金属层。 然后在这层金属上覆上一层光阻。 这层光阻剂在曝光（一般是紫外线波长的准分子激光）后可以被特定溶液（显影液）溶解。
先进光刻技术的发展历程与最新进展 李艳丽，刘显和，伍强* 复旦大学微电子学院，上海 201203 摘要 光刻技术是半导体集成电路技术发展的主要推动技术，其不断提高的分辨率与图形复制精度成功地将集成电 路制造线宽从40多年前的2~3 μm缩小到先进的10~15 nm。
光刻 - 百度百科
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
半导体的光刻工艺全过程，技术讲解 - CSDN博客
2018年12月4日 · 光刻工艺负责在硅片表面构建微小的图形结构，而刻蚀工艺则将这些图形转化为实际的电路元件，二者相辅相成，共同塑造了半导体世界的微观奇迹。光刻工艺流程包含多个精细步骤，每个步骤都对最终的光刻质量起着至关重要的作用。
一步一图，了解光刻机的工作原理 - 知乎 - 知乎专栏
2023年4月12日 · 光刻机是半导体工业中的关键设备，主要用于制造芯片中的微小结构。它通过将掩模上的图形投影到硅片上，并使用紫外线照射硅片表面，使其形成微小的结构。 本文将从光刻机的构成、工作原理、曝光过程和曝光技术等方…
详解光刻机结构及工作原理 - 知乎 - 知乎专栏
2023年12月16日 · 光刻机（Lithography Machine）是一种半导体工业中常用的设备，用于将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，是IC制造的核心环节，光刻机的基本工作原理是利用光学原理将图案投射到硅片上。光刻机主要由光源、凸透镜…